多弧离子镀制备TiN/AlN纳米多层膜及其性能的研究
本研究采用多弧离子镀技术在制备TiN薄膜的基础上获得TiN/AlN纳米多层膜，并对TiN/AlN纳米多层膜的性能做了初步探讨。
本文第一部分为多弧离子镀技术制备TiN薄膜的研究，通过对影响镀膜过程的重要因素：负偏压、氮气分压、弧电流、基体温度等的研究，得出他们对涂层厚度和性能影响的规律，实验证明，靶电流80A、基体温度500℃(高速钢)、偏压50V、氮气分压1Pa、沉积时间40min时TiN薄膜具有最佳的综合性能。
第二部分为多弧离子镀技术制备TiN/AlN纳米多层膜的研究，实验获得具有一定超硬效应的小调幅周期的TiN/AlN纳米多层膜，其结合力与TiN相差不大，但通过薄膜腐蚀试验及抗氧化性能试验证明，TiN/AlN纳米多层膜具有比TiN薄膜更优异的耐腐蚀及抗氧化性能。
多弧离子镀;TiN薄膜;纳米多层膜;耐腐蚀;抗氧化;纳米材料
武汉科技大学
硕士
材料学
潘应君
2005
中文
TG174.444
53
2006-04-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）