光纤定位硅V型槽的设计与制作
通过光纤把外部光源引入SOI集成光路时,为减少偶然因素对耦合效率的影响,需解决光纤定位问题,以及为提高多通道波导型器件、半导体激光器阵列、光开关阵列等与光纤的耦合效率问题,作者利用单晶硅材料,设计并制作出具有高精度光纤定位功能的硅V型槽及其阵列.该文围绕硅V型槽的设计和制作,从理论上详细分析了单模光纤与脊形波导的模式特点,得出最佳的耦合条件,在此基础上设计出最合适的硅V型槽结构.在实践上,对制作工艺积极探索,提出新的制备硅掩蔽膜的工艺方案,对影响光刻质量的因素深入分析.试验摸索出适用于V型槽的各向异性湿法腐蚀的腐蚀液配方,独立优化设计了制作硅V型槽的相关工艺,制作出高质量的硅V型槽.并展示了它广阔的应用前景和科研产品的开发价值.
光纤定位;V型槽;掩蔽膜;各向异性腐蚀
长春理工大学
硕士
凝聚态物理
钟景昌
2002
中文
TN253
58
2004-04-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）