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目录
图表索引
第一章绪论
1．1课题研究背景及意义
1．1．1课题研究背景
1．1．2传统取向结构制造方法及局限性
1．1．3电流体动力喷印技术概述及其优势
1．2国内外研究现状
1．2．1电流体动力喷印取向纳米纤维的研究
1．2．2多射流电流体动力喷印及均匀制备过程研究
1．2．3电流体动力直写机理及多场耦合定位沉积描述
1．2．4文献调研结论
1．3课题来源及研究内容
1．3．1课题来源
1．3．2研究目标及主要内容
1．3．3章节组织
第二章阵列针头近场直写取向纤维平台的研制及机理分析
2．1引言
2．2实验平台搭建和工艺过程
2．2．1实验材料
2．2．2阵列针头近场电纺实验平台搭建
2．2．3纤维结构及其他指标表征方法
2．3基于多针近场直写的阵列取向纤维结构制备
2．3．1初始射流形态
2．3．2稳态多射流近场直写
2．4基于多针近场直写的阵列三维取向纤维结构制备
2．4．1实验平台的搭建及工艺分析
2．4．2基于PVDF的三维取向纤维结构制备
2．5本章小结
第三章阵列针头结构参数对近场直写过程的影响机理
3．1引言
3．2阵列针头的结构参数对取向纤维结构的影响
3．2．1针头参数对取向纤维沉积形貌及均匀性的影响
3．2．2针头数量及排列对取向纤维沉积形貌及均匀性的影响
3．3阵列针头电场干扰表征及原因
3．3．1阵列针头的电场干扰表征
3．3．2阵列针头的电场干扰原因
3．4阵列针头电场干扰的定量表征
3．4．1阵列针头电场的模拟
3．4．2阵列针头电场干扰的定量表征
3．5阵列针头电场干扰与取向纤维沉积形貌及均匀性的关系
3．5．1阵列针头电场干扰与取向纤维形貌的关系
3．5．2阵列针头电场干扰与取向纤维均匀性的关系
3．6本章小结
第四章多领域工艺参数对近场阵列射流沉积特性的影响机理
4．1引言
4．2多领域工艺因素对双针近场直写沉积特性的影响
4．2．1双针近场直写取向图案集成度改进
4．2．2多领域工艺参数对双针近场直写取向纤维沉积间距的影响
4．3双针近场直写取向纤维的核心参数甄选
4．4双针近场直写取向纤维的工艺参数规划
4．4．1响应面法实验设计
4．4．2统计与回归分析
4．4．3双针近场直写取向纤维工艺参数响应面分析
4．4．4双针近场直写取向纤维的工艺参数优选准则
4．5本章小结
5．1引言
5．2静电纺丝领域理论研究
5．2．1泰勒锥的成型机理
5．2．2带电射流的飞行行为研究
5．2．3带电液滴的不稳定条件研究
5．2．4纤维成型的影响机理研究
5．3双针近场电纺多射流定位沉积的数学模型描述
5．3．1双针近场电纺的基本理论
5．3．2双针近场电纺的多射流飞行过程分析
5．3．3双针近场电纺多射流定位沉积的数学模型及实验验证
5．4多针近场电纺的多射流定位沉积数学模型描述
5．4．1多领域变量对近场多射流定位沉积的影响
5．4．2多针头阵列射流对沉积定位的动力学分析
5．4．3多针头阵列射流沉积定位动力学模型及实验验证
5．5本章小结
第六章阵列针头近场直写取向有序微结构器件
6．1引言
6．2基于取向纤维阵列的透射光栅制备与表征
6．2．1研究背景
6．2．2透射光栅的制备与表征
6．3基于三维取向结构纤维阵列的透明电极制备与表征
6．3．1透明电极的研究背景
6．3．2透明电极制备与表征
6．4基于电流体动力直写微流体通道的制备与表征
6．4．1微流体通道的研究背景
6．4．2微流体通道制备与表征
6．5本章小结
7．1全文总结
7．2研究展望
参考文献
附录
声明
致谢