CTAB@SiO2纳米复合物作为基因转染载体的研究
目的:制备二氧化硅纳米，并将十六烷甲基溴化铵(CTAB)包覆在二氧化硅纳米表面形成CTAB@SiO2复合物，同时研究不同条件下修饰后二氧化硅纳米表面电位的变化情况。最后还研究了CTAB@SiO2复合物对HepG2，U251，Hela的细胞毒性，也探讨了该复合物能否和PCR出的内皮抑素基因结合并保护内皮抑制素基因不被核酶降解。
方法:通过微乳法制备了二氧化硅纳米，并利用静电结合作用及疏水键合作用将CTAB包覆在二氧化硅纳米表面。该复合物的细胞毒性则通过MTT检测分析得出。同时，通过琼脂糖凝胶电泳研究了该复合物能否运载DNA及保护DNA不被核酸酶降解。
结果:通过微乳法成功制备出了粒径约为100 nm的二氧化硅纳米粒，修饰后二氧化硅纳米的zeta电位由负值变为正值，但粒径并未发生明显变化。通过单因素实验发现，CTAB的浓度，溶液的pH值，搅拌时间对修饰后二氧化硅纳米粒的表面电位有很大影响。通过MTT实验发现，CTAB修饰二氧化硅纳米后，能使二氧化硅纳米细胞毒性增大，但也能使CTAB的细胞毒性减小。在HepG2细胞中，SiO2的IC50是458.9μg/mL，而CTAB@SiO2复合物的IC50是259.44μg/mL，在U251细胞中，SiO2的IC50是442.94μg/mL，而CTAB@SiO2复合物的IC50是264.62μg/mL，在Hela细胞中，SiO2的IC50是348.52μg/mL，而CTAB@SiO2纳米复合物的IC50是285.05μg/mL。通过琼脂糖凝胶电泳发现，该复合物不仅能结合DNA，还能保护DNA不被核酸酶降解。
结论:CTAB修饰二氧化硅纳米后，二氧化硅纳米的表面电位发生重要改变，同时，修饰后的二氧化硅纳米不仅能和DNA结合，还能保护DNA不被核酶降解，修饰后的二氧化硅纳米适合作为基因转染的非病毒载体。
二氧化硅纳米复合物;内皮抑素;基因治疗;细胞毒性
中南大学
硕士
药剂学
陈玉祥
2012
中文
TB383
57
2012-11-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）