高密度磁记录磁头材料Fe-Co薄膜的微结构和磁特性研究
随着磁盘面记录密度的不断提高，要求磁记录介质具有很高的矫顽力，而要在高矫顽力上记录信息，要求记录磁头材料必须具有高饱和磁感应强度。Fe-Co合金因具有高饱和磁化强度，而使其成为很有竞争优势的材料，但Fe-Co合会薄膜一般表现大的矫顽力，给应用带来很大困难。
本文采用对靶磁控溅射的方法，在真空环境下制备了Fe-Co系列薄膜，并利用VSM、SPM和XRD等设备对材料的磁特性和微结构进行了测试、分析。讨论了不同的靶成分、热处理温度及薄膜厚度对薄膜微结构和磁特性的影响。取得的主要研究结果如下：
(1)对于Fe50Co50(50nm)薄膜，样品的矫顽力随基底温度的升高呈现越来越低的趋势，在基底温度为500℃时，矫顽力的值最小为47Oe。表面形貌的研究表明，Fe50Co50(50nm)薄膜表面的粗糙度随着基底温度的升高逐渐增大，磁畴对比度随基底温度的升高而增强。XRD测试样品峰的强度随基底温度升高明显增强。
(2)对沉积态Fe50Co50薄膜样品，当膜厚小于33nm时，随着膜厚的增加，样品的矫顽力逐渐降低；在厚度为33nm时出现了最小值为25Oe；当厚度大于33nm时，矫顽力随着薄膜厚度的增加逐渐增加；当薄膜厚度增加为170nm时，样品的矫顽力达到最大值106Oe。表面粗糙度随薄膜厚度的增加越来越大。XRD测试样品峰的强度随薄膜厚度增加明显增强。
(3)对沉积态Fe70Co30系列薄膜的研究得到，随着膜厚的增加，样品的矫顽力逐渐升高，饱和磁化强度则有降低趋势。表面形貌的研究表明，当薄膜厚度增加时，表面粗糙度也在增加。XRD测试样品峰的强度随薄膜厚度增加明显增强。
(4)对退火温度600℃的Fe70Co30薄膜样品，随着膜厚的增加，样品的矫顽力先增加后降低。表面粗糙度及磁畴强弱对比随厚度的增加越来越大。XRD测试样品峰的强度随薄膜厚度增加明显增强。
磁记录磁头材料;FeCo薄膜;微结构;磁性能;退火温度;饱和磁化强度
河北师范大学
硕士
凝聚态物理
郭革新
2008
中文
TG139.6;TM271
49
2009-04-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）