基于移动X光光刻与转模技术的微透镜阵列研究
利用微机电系统（MEMS）技术来制备微透镜阵列是目前的研究热点之一。传统紫外（UV）光刻技术制备微透镜阵列是基于圆形掩膜与固定光刻，再结合热熔工艺来制备微透镜阵列，这种方法虽然简单，但是制备的微透镜轮廓单一。本文在分析总结目前微透镜阵列制备方法的基础上，提出了基于两次移动X光光刻与转模技术的微透镜阵列制备新方法。两次移动X光光刻技术，即第一次X光曝光后，掩膜版旋转90°，再进行第二次X光曝光。本文通过将侧向刻蚀引入到光刻胶显影刻蚀机理中，建立了具有全方向刻蚀的显影刻蚀仿真预测模型与算法，分析了相关参数的内在联系，并编写了C仿真预测程序，进行了微透镜形貌预测。 本文利用提出的微透镜阵列制备方法，采用半圆掩膜图形制备了聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）微透镜阵列模具，并通过聚二甲基硅氧烷（PDMS）转模技术制备了环氧树脂微透镜阵列，并进行了形貌测试，证实了这种方法的可行性。将仿真预测结果与实验结果进行了比较，结果表明显影深度的误差为5%。建立的仿真预测模型可用于基于两次移动X光刻技术的微透镜形貌的预测，可为微透镜的改良提供参考。
微机电系统;移动X光光刻;微透镜阵列;转模技术;形貌预测
上海应用技术大学
硕士
机械电子工程
李以贵
2017
中文
TH74
2021-11-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）