基于线性CCD自适应成像的光刻机平台调平方法研究
光刻机技术是现代电子信息技术的核心，而光刻机平台调平技术又是光刻机技术中不可或缺的一部分。利用光刻机平台调平技术对光刻机平台进行调平，将有助于提高光刻过程中光刻曝光的质量。目前传统的光刻机平台调平技术，主要以基于光路反射的光刻机调平为主，对于光路设计和硬件实现的要求很高，而且较为容易受到实验环境的干扰。此外，目前普遍采用的成像检测设备是线性CCD，而线性CCD比较容易受到实验过程中的速度干扰从而影响调平角度检测精度和效果。 本文在传统的光刻机调平技术的基础上，提出了一种新的基于线性CCD自适应成像的光刻机平台调平方法。主要研究内容如下： 1）基于线性CCD成像容易受到扫描速度扰动的干扰，本文设计了线性CCD自适应成像方法，使得线性CCD扫描成像抗干扰能力更强，从而增强了本文提出的调平方法的适应环境干扰的能力。 2）为简化光刻机调平的硬件要求，在传统的基于光路反射的光刻机平台调平方法基础上，设计了基于垂直投影成像的倾斜角度计算方法。以线性CCD成像为基础进行调平角度计算，简化了传统的调平角度计算过程。 3）本文利用raL8192-12gm型线阵相机、C++和C#等多种软件开发环境，通过软件和硬件相结合的方式实现了上述基于线性CCD自适应成像的光刻机平台调平方法。 和传统的光刻机调平方法相比，本文提出的方法简化了传统的光刻机平台调平的硬件设备和调平角度计算过程，采用了一种新的基于垂直投影的方法，利用线性CCD进行垂直投影成像来计算光刻机平台倾斜角度，并且对于线性CCD成像过程中可能出现的速度扰动进行了深入的分析和处理 通过实验证明，和传统的光刻机调平方法相比，具有硬件成本低，测试方法灵活，对成像中的速度干扰有一定的适应性等优点。
光刻机;调平技术;电荷耦合器件;自适应成像
电子科技大学
硕士
控制科学与工程
于力
2019
中文
TN405
2019-09-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）