10.3969/j.issn.1009-0134.2018.07.038
10MeV电子直线加速器辐照控制工艺研究
以10Mev电子直线加速器为研究对象,介绍横向、纵向及深度三个方向上辐照产品的均匀性研究.通过理论计算和CTA剂量片实际测量的三个方向的均匀性,总结出三个方向均匀性的约束条件,建立基于PLC程序的辐照控制工艺.本研究对10MeV辐照电子直线加速器的辐照工艺研究有一定指导意义.
电子加速器、辐照工艺、剂量分布、不均匀度
40
TL503(加速器)
2018-08-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
144-147
