10.16433/j.1673-2383.2022.03.001
等离子体多尺度氧化对展青霉素降解的影响
展青霉素(PAT)残留是果汁产业面临的食品安全问题之一,采用新技术开展PAT的降解机制研究对解决PAT残留具有重要意义.采用介质阻挡放电(DBD)低温等离子体处理PAT溶液,使用光学发射光谱仪检测DBD等离子体产生的活性物质,使用高效液相色谱法检测DBD等离子体对PAT的降解率,采用不同自由基屏蔽剂构建多尺度氧化体系探索低温等离子体处理对PAT的降解机制.结果表明:DBD等离子体会产生大量的活性氧和活性氮,且随着处理时间延长,溶液pH值大幅度下降,PAT的降解率高达(90.92±1.98)％(P<0.05);采用屏蔽剂所构建的多尺度氧化活性物质降解PAT的能力为e-(aq)>O2->·OH>H2O2,短寿命活性物质的作用大于长寿命活性物质;PAT会抑制大肠杆菌(E.coli O157:H7)的生长,但PAT降解产物对E.coli O157:H7的影响较小.DBD等离子体可以有效地降解水中的PAT,放电产生的短寿命活性物质在降解过程中发挥了重要作用,PAT降解产物对大肠杆菌没有明显的毒性作用.
展青霉素、低温等离子体、介质阻挡放电、多尺度氧化体系
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TS201.6(食品工业)
国家自然科学基金31972205
2022-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共10页
1-9,34
