10.3969/j.issn.1671-2072.2018.01.014
瓦特镀镍技术显现金属铜表面油潜手印工艺探析
目的 解决金属铜表面油潜手印显现技术难题,进一步丰富手印显现的技术方法和理论体系.方法 通过电化学方法,利用金属离子在阴极表面的还原反应,研究了瓦特镀镍体系中金属铜表面油潜手印的显现工艺.结果 利用金属铜基体与金属镍镀层存在的明显色差可以清晰显出金属铜表面的油潜手印,显出的手印细节特征清晰,符合检验鉴定工作的需要.结论 在瓦特镀镍体系中,控制阴极电流密度为2.5 A/dm2,电解时间为300s是比较适宜的显现工艺参数,可应用于实际工作中金属铜表面油潜手印显现.
镀镍、油质潜手印、电流密度、电解时间
DF794.1(诉讼法)
上海市刑事科学技术研究院现场物证重点实验室开放课题2014XCWZK10
2018-03-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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