10.3969/j.issn.2095-2783.2015.08.015
应用于大面积光刻的激光图案检测系统
基于激光干涉光刻的基本原理，设计了新型的可应用于大面积光刻的激光图案检测系统，并阐述了利用电荷耦合元件对光刻图案的 CMOS 实时检测及实现大面积光刻的方法。实验结果表明，使用激光干涉光刻技术可以产生大面积的亚微米级周期性图案。该方法提供了得到高分辨、无限焦深、大面积光刻的可能性。
激光干涉光刻、压电陶瓷控制、CMOS 实时检测
TN393(半导体技术)
国家自然科学基金资助项目61176002；高等学校博士学科点专项科研基金资助项目20112216110002；吉林省科技发展计划资助项目201115157，20110704
2015-07-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
948-951,956
