10.3969/j.issn.2095-2783.2008.06.012
高纯铝的电化学抛光工艺研究
本文研究了高氯酸,乙醇抛光液体系在15V安全电压下高纯铝的抛光工艺以及抛光过程的电流密度,并对"暗色膜"现象进行了解释,对抛光电极间距、操作温度对抛光效果的影响进行探讨,得出最佳抛光工艺:电极问距7～8 cm,操作温度10～15℃,电流密度0.7 ～0.8A/m2,抛光时间3min.
电化学、电化学抛光、高纯铝、暗色膜
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O646;TQ586.5(物理化学（理论化学）、化学物理学)
国家自然科学基金20401001,50772001;安徽省优秀青年科技基金08040106822
2008-12-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
447-451
