超光电子铜箔的微尺度激光冲击平坦化
根据激光冲击的原理对超光电子铜箔进行了微尺度激光冲击平坦化(MLSF)处理.首先,通过MLSF实验研究脉冲能量和冲击次数等工艺参数对电子铜箔平坦化效果(表面粗糙度Sa)的影响规律;然后,根据电子铜箔平坦化效果与工艺参数的对应规律,阐明电子铜箔的MLSF原理;最后,采用透射电子显微镜对MLSF处理前后的电子铜箔进行显微表征,揭示电子铜箔MLSF的表面变形机理.研究结果表明:当激光脉冲能量为100 μJ、冲击次数为3次时,电子铜箔的表面粗糙度(Sa)从22.7 nm降低到5.0 nm,降低了 78%;冲击波经吸收层和样品层后被放大,使得样品层(铜箔)与底板(玻璃)的表面形貌接近;金属箔内部的小塑性变形和下表面附近的大塑性变形是MLSF的表面变形机制.
激光技术、激光冲击、微尺度、电子铜箔、表面粗糙度、表面变形机理
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TN249(光电子技术、激光技术)
国家自然科学基金;中央高校基本科研业务费专项
2022-09-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共10页
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