用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计
投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式.针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差的特点,提出了一种混合分区设计方法,并利用该方法对产生传统照明模式、二极照明模式和四极照明模式的DOE进行了具体的设计.仿真分析了采用常规重复分区方法和混合分区方法的两类设计结果,并对它们的远场光强分布进行了详细的比较分析.在相同的局部优化算法条件下,相对于常规重复分区方法的设计结果而言,混合分区方法设计的DOE可使传统照明模式的非均匀性从26.45％下降到1.12％,二极照明模式的非均匀性从19.93％下降到5.45％,四极照明模式的非均匀性从17.73％下降到3.54％.混合分区设计方法无需改变局部优化算法,在保持高衍射效率的同时能大幅度提高光瞳均匀性.
光学设计、衍射光学元件、混合分区设计、迭代傅里叶变换、光瞳整形、投影光刻
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O438(光学)
国家科技重大专项2011ZX02402;国家国际科技合作项目2011DFR10010资助课题
2013-07-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
308-312
