热蒸发紫外LaF3薄膜光学性能和结构表征
在不同的沉积温度下,用热蒸发方法在熔融石英(JGSl)上制备了LaF3单层薄膜.分别采用分光光度计测量了薄膜样品的透射率和反射率光谱,反演得出薄膜的折射率和消光系数；采用原子力显微镜(AFM)观察了样品的表面形貌,并通过表面粗糙度计算得出总积分散射损耗；采用X射线衍射仪(XRD)测试了薄膜的晶体结构,由衍射谱图拟合得到衍射峰的半峰全宽,进而计算出薄膜晶粒的平均尺寸.实验结果表明,随着沉积温度的升高,LaF3薄膜的结晶状况明显变好,晶粒尺寸逐渐变大,膜层变得更加致密,薄膜的光学常数和折射率不均匀性均呈线性变化.沉积温度的增加对薄膜表面粗糙度的影响不明显,散射损耗在光学损耗中所占比例较小,所以光学损耗的变化主要由吸收损耗引起.
薄膜、沉积温度、热蒸发、LaF3、光学损耗
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O484(固体物理学)
2013-01-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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