激光预处理对Si02单层膜中缺陷的影响
采用小光斑激光预处理扫描Si02单层膜,利用激光损伤阂值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析,并引人缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷.研究表明,激光预处理可以使Sio2单层膜在采用最大光斑条件下的损伤阈值提高1.6倍左右,并且激光预处理可清除薄膜中低阈值的缺陷.
薄膜、激光预处理、Si02、单层膜、光斑效应、缺陷
37
TN249;O484(光电子技术、激光技术)
国家高技术研究发展计划（863计划）2006AA804908
2011-05-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
1626-1630
