10.3321/j.issn:0258-7025.2007.09.026
温度对飞秒激光沉积ZnO/Si薄膜的结构和性能的影响
通过飞秒脉冲激光(50 fs,800 nm,1 kHz,2 mJ)沉积技术在n型Si(100)单晶基片上制备了ZnO薄膜.详细研究了基片温度变化以及退火处理对ZnO薄膜的结构、表面形貌及光学性质的影响.X射线衍射(XRD)结果表明,不同温度下(20～350℃)生长的ZnO薄膜具有纤锌矿结构,并且呈c轴择优取向;当基片温度为80℃时,薄膜沿(002)晶面高度择优生长;当基片温度为500℃时薄膜沿(103)晶面择优生长,场发射扫描电子显微镜(FEEM)结果表明薄膜呈纳米晶结构,并观察到了ZnO的六方结构.进一步通过透射光谱的测量讨论了基片温度及退火处理对ZnO薄膜光学透射率的影响,结果表明退火后薄膜的透射率增大.
薄膜、ZnO薄膜、飞秒激光沉积、纳米晶结构
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O484(固体物理学)
国家自然科学基金10604018;教育部高等学校博士学科点专项科研基金20060487006
2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
1282-1286
