10.3321/j.issn:0258-7025.2007.04.018
脉冲激光沉积法制备氧化锌薄膜
ZnO是一种新型的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,具有优良的晶格、光学和电学性能,其显著的特点是在紫外波段存在受激发射.利用脉冲激光沉积法(PLD)在氧气氛中烧蚀锌靶制备了纳米晶氧化锌薄膜,衬底为石英玻璃,晶粒尺寸约为28～35 nm.X射线衍射(XRD)结果和光致发光(PL)光谱的测量表明,当衬底温度在100～250℃范围内时,所获得的ZnO薄膜具有c轴的择优取向,所有样品的强紫外发射中心均在378～385 nm范围内,深能级发射中心约518～558 nm,衬底温度为200℃时,得到了单一的紫外光发射(没有深能级发光).这归因于其较高的结晶质量.
薄膜、ZnO薄膜、紫外受激发射、脉冲激光沉积
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O484.1(固体物理学)
2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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