10.3321/j.issn:0258-7025.2005.05.024
高反射率193 nm Al2O3/MgF2反射膜的实验研究
用电子束热蒸发方法在熔融石英基底上沉积了Al2O3和MgF2两种材料的单层膜,研究了两种材料的光学特性,采用光度法计算并给出了薄膜材料在180～230 nm的折射率n和消光系数k的色散曲线.以两种材料作为高低折射率材料组合,采用1/4波长规整膜系设计并镀制了193 nm的高反射膜,反射膜在退火后的反射率在193 nm达到96%以上.结果表明在一定工艺条件下Al2O3和MgF2两种材料能够在193 nm获得较好的光学性能,适用于高反射膜的制备.
薄膜、高反膜、光学常数、Al2O3、MgF2
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O484.4(固体物理学)
2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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685-688
