10.3321/j.issn:0258-7025.2005.02.035
玻璃基板上激光微细熔覆直写电阻技术的研究
介绍了玻璃基板上激光微细熔覆柔性直写电阻的基本原理及其工艺,系统地研究了各工艺参数的变化对电阻阻值的影响规律.通过热作用、激光与物质的相互作用原理理论分析了电阻膜的形成以及组织、结构、性能间的关系,确立了制备电阻的最佳工艺参数和获得高精度、小误差电阻阻值测试的最佳方法.结果表明,采用该技术可以在无掩膜下通过调节电阻的形状、大小、体积以及激光加工参数,一步完成所需高精度、高质量、高性能电阻元件的制备和修复,不需要电阻的微调,工艺简单、灵活、速度快、成本低,具有广阔的应用前景.
激光技术、激光微细熔覆、柔性直写、电阻
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TN605(电子元件、组件)
国家高技术研究发展计划863计划2001AA421290;中国科学院资助项目50075030
2008-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
281-286
