10.19611/j.cnki.cn11-2919/tg.2022.02.012
管式PECVD反应室流场仿真优化及应用研究
利用Star-CCM流体仿真软件,按照常规工艺参数,对管式等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备反应室腔体进行三维建模仿真,研究搭载不同结构石墨舟的反应室腔体内部流场分布,结合仿真数据,分组实验验证镂空石墨舟块对镀膜均匀性的影响.实验结果表明:镂空舟块能有效改善石墨舟的舟中及舟尾舟片间的气流分布,提高薄膜生长的均匀性.
PECVD、反应室、石墨舟、流场动力仿真、镀膜均匀性
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TN304.55(半导体技术)
湖南省创新型省份建设专项2019TP2048
2022-07-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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