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10.3969/j.issn.1673-5137.2016.02.007

浅析光纤预制棒(MCVD法)的制备工艺研究

引用
一引言 MCVD工艺,即改进的化学气相沉积法,是英文Modified Chemical Vapor Deposition的简称,1973年,由贝尔实验室的Machesney等人首先提出.MCVD工艺可以生产折射率机构复杂的光纤结构.在光纤制造方面,它拥有极大的灵活性,比如光纤材料选择和光纤尺寸设计等.利用MCVD制作的多模和单模光纤在衰减、带宽、数值孔径、弯曲灵敏度、连接损耗、机械性能等方面都有较大的改进.

光纤预制棒、Chemical Vapor Deposition、化学气相沉积法、贝尔实验室、数值孔径、连接损耗、机械性能、光纤制造、光纤结构、工艺、单模光纤、尺寸设计、材料选择、折射率、灵敏度、灵活性、制作、英文、弯曲、生产

TG1;TB3

2016-06-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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1673-5137

51-1692/TN

2016,(2)

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