10.3969/j.issn.1009-7104.2010.04.010
光刻胶特性曲线参数测量的新方法
文中通过台阶实验的数据结合光刻胶光栅掩模的槽形,得到光刻胶特性参数,利用这些参数可以模拟出任一曝光量,任一显影时间,任一空频下,光栅掩模的槽形.为今后制作符合要求的光栅提供有力依据.
光刻胶、台阶实验、光栅掩模、特性参数
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TG8;TG4
2011-03-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
29-32
10.3969/j.issn.1009-7104.2010.04.010
光刻胶、台阶实验、光栅掩模、特性参数
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TG8;TG4
2011-03-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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