10.13911/j.cnki.1004-3365.180323
Hf0.5Zr0.5O2基铁电电容器的特性研究
利用原子层淀积工艺制备了9 nm厚的铪锆氧(Hf0.5Zr0.5O2)铁电薄膜.通过淀积TiN顶/底电极形成Hf0.5Zr0.5O2铁电电容,研究退火工艺和机械夹持工艺对铁电电容性能的影响.实验结果表明,极化强度-电压曲线为电滞回线形,双倍剩余极化强度达31.7 μC/cm2,矫顽电压约为1.6V,电学性能明显提高.在150℃高温下,Hf0.5Zr0.5O2基铁电电容器的电学性能仍然良好,证明了退火工艺和机械夹持工艺对电学性能的优化作用.
铪锆氧、铁电电容、机械夹持、剩余极化强度、矫顽电压
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TN384(半导体技术)
国家自然科学基金资助项目616340084
2019-07-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共5页
418-421,426
