10.13911/j.cnki.1004-3365.170108
质子辐射导致CCD热像素产生的机制研究
空间高能质子作用于电荷耦合器件(CCD)产生的热像素是空间成像系统性能退化的主要原因之一.为深入认识质子辐射导致CCD产生热像素的规律和机制,对行间转移CCD进行了不同能量(3,10,23 MeV)的质子辐射试验,研究了辐射导致CCD暗信号的退化和热像素产生的规律.试验结果表明,在较低辐射注量1E9 p/cm2下,CCD的暗信号退化很小,但热像素急剧增加.质子辐射能量越大,产生的热像素数量越多.结合粒子输运计算与理论分析表明,热像素产生原因是质子与半导体材料中的原子非弹性碰撞而形成的团簇缺陷.
电荷耦合器件、质子辐射效应、热像素
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TN386.5(半导体技术)
中国科学院西部之光重点项目ZD201301;中国科学院青年创新促进会和新疆维吾尔自治区科技人才培养项目qn2015yx035
2018-04-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
115-119,125
