氧化锌基TFT稳定性研究进展
总结了氧化锌基TFT稳定性的最新研究进展,分析了栅偏压、栅绝缘层和背沟道影响TFT稳定性,尤其是阈值电压稳定性的主导机制.结果表明,氧化锌基TFT的不稳定性主要取决于陷阱缺陷态对可动载流子的俘获作用,以及新陷阱态的产生.总结了提高氧化锌基TFT稳定性的三种途径:降低栅偏压；提高沟道/栅绝缘层界面质量,降低缺陷态密度；钝化保护背沟道.
氧化锌、薄膜晶体管、显示器件
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FN432
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目2009ZM0205;国家大学生创新性实验计划资助项目091056122
2012-04-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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888-893
