10.3969/j.issn.1004-3365.2007.04.016
纳米时代的可制造性设计
集成电路产业在遵循摩尔定律发展进入纳米时代后,制造工艺效应对芯片电学性能的影响越来越大,使得在设计的各个阶段都必须考虑可制造性因素.介绍了可制造性设计中的分辨率增强技术、工艺可变性,以及建立可制造性设计机制中的多方合作问题.
集成电路、可制造性设计、分辨率增强、工艺可变性、光学邻近校正、化学机械抛光
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TN405(微电子学、集成电路（IC）)
2007-10-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
532-537
