10.3969/j.issn.1004-3365.2007.01.007
功率器件硼基区注入工艺研究
随着功率双极集成电路在军民两用的各种电源管理、功率驱动等领域的广泛应用,以及集成电路生产规模的进一步扩大,对参数一致性、重复性、均匀性的要求越来越高;文章重点介绍功率器件硼基区注入工艺,对工艺原理和工艺方案进行了详细阐述;并给出了工艺结果以及在产品中的应用情况.
功率器件、离子注入、硼基区、集成电路工艺
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TN305.3(半导体技术)
2007-04-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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