期刊专题

10.3969/j.issn.1004-3365.2006.04.020

电镀技术在凸点制备工艺中的应用

引用
简要回顾了微电子封装的发展历程;描述了FC、BGA、CSP以及WLP的基本概念;归纳了凸点类型以及各种凸点的不同用途;着重介绍了电镀金、金锡、锡铅、锡银和化学镀镍凸点的工艺过程,最后简单介绍了制备凸点的电镀设备.

微电子封装、芯片级封装、圆片级封装、电镀、凸点制备

36

TN305.94(半导体技术)

2006-09-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

467-472

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微电子学

1004-3365

50-1090/TN

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2006,36(4)

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