10.3969/j.issn.1004-3365.2006.01.020
准分子激光晶化制备TFT多晶硅薄膜的研究进展
对准分子激光晶化制备TFT用多晶硅薄膜的研究进展进行了综述.介绍了晶化过程中的超级横向生长现象.主要结合各种基于光束调制和光刻技术的人工控制超级横向生长方法,讨论了获得大晶粒尺寸优质多晶硅薄膜的途径.
TFT、多晶硅薄膜、准分子激光晶化、人工控制超级横向生长
36
TN305(半导体技术)
2006-04-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
70-74
10.3969/j.issn.1004-3365.2006.01.020
TFT、多晶硅薄膜、准分子激光晶化、人工控制超级横向生长
36
TN305(半导体技术)
2006-04-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
70-74
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn