10.3969/j.issn.1004-3365.2006.01.011
温湿度对制版图形缺陷的影响
介绍了制版工艺中常见的缺陷类型,分析了缺陷产生与温湿度的关系.通过实际工作应用,就缺陷控制的办法进行了有益的探讨,对光掩模版的制造有一定的指导意义.
半导体工艺、光掩膜版、缺陷、显影、腐蚀、温湿度
36
TN305.6(半导体技术)
2006-04-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共3页
36-37,42
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10.3969/j.issn.1004-3365.2006.01.011
半导体工艺、光掩膜版、缺陷、显影、腐蚀、温湿度
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TN305.6(半导体技术)
2006-04-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号：2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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