10.3969/j.issn.1004-3365.2003.01.011
工艺综合及其在MOSFET和双极器件中的应用
工艺综合是一种自顶向下的工艺、器件设计方法.文章通过应用于MOS器件和双极型器件的工艺与器件设计,介绍工艺综合并验证工艺综合思想;介绍了基于工艺综合开发的MOSPAD软件系统.在工艺综合系统中,使用响应表面法可加速综合的速度.
工艺综合、MOSFET、双极器件、响应表面法
33
TN405(微电子学、集成电路(IC))
2004-02-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
37-40