10.3969/j.issn.1004-3365.2003.01.007
单元特性提取中采样点偏离现象的研究
为使应用于集成电路设计中的单元时序信息库更能反映实际情况,研究了特性提取中出现的采样点分布偏移和格点偏离现象,并提出了有效的解决方法.该方法通过建立查表模型,无需多次重复仿真就能准确定位任意采样点.理论分析和仿真结果均表明,该方法不仅耗费时间少,定位也能满足单元建库的要求,经过实例化后,能很好地应用于超深亚微米工艺下的单元特性提取.
超大规模集成电路、特性提取、采样点、查表模型、超深亚微米工艺
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TN47(微电子学、集成电路（IC）)
2004-02-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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