10.3969/j.issn.1004-3365.2003.01.003
实现工艺映射的新方法
逻辑综合中,工艺映射是关键的一步.过去,基于树的映射由于其速度快、算法简洁而被广泛使用.但是,将电路结构划分为树,破坏了电路结构,缩小了映射的解空间.双态覆盖(Binate Covering)能充分利用门级网表的结构特性,使工艺映射后的电路具有更好的性能.
工艺映射、双态覆盖、逻辑综合
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TN405(微电子学、集成电路（IC）)
美国国家科学基金5978;国家微电子重点科技攻关项目96-738-01-09-02;国家微电子科技攻关项目96-738-01-09-02
2004-02-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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