10.3969/j.issn.1004-3365.2002.02.020
大流量超纯氢气纯化设备制造技术
超纯氢气(大于6 N)是半导体硅外延等工艺必备的工艺气体.文章介绍了利用超低温吸附的方法提纯大流量超纯氢气的工作原理,设备制造中的
硅外延、半导体工艺、超纯氢气、超低温吸附、纯化设备
32
TN405.98+4(微电子学、集成电路(IC))
2004-02-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
152-153,160
10.3969/j.issn.1004-3365.2002.02.020
硅外延、半导体工艺、超纯氢气、超低温吸附、纯化设备
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TN405.98+4(微电子学、集成电路(IC))
2004-02-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
152-153,160
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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