10.3969/j.issn.1004-3365.2001.02.017
集成电路局部缺陷模型及其相关的功能成品率分析
大规模集成电路(VLSI)使亚微米特征尺寸的大面积集成电路制造以及集成数百万个器件在一芯片上成为可能。然而，缺陷的存在致使电路版图的拓扑结构发生变化，产生IC电路连接错误，导致电路丧失功能，从而影响IC的成品率，特别是功能成品率。文章主要对缺陷的轮廓模型、空间分布模型和粒径分布模型作了介绍；对集成电路成品率的损失机理作了详细论述。最后，详细介绍了功能成品率的分析模型。
大规模集成电路、亚微米器件、功能成品率、缺陷模型
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TN47(微电子学、集成电路（IC）)
2004-02-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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