10.3969/j.issn.1004-3365.2000.05.016
铁电存储器制备中关键工艺的改进
传统铁电存储器制备工艺中,存在着Pt/Ti下电极刻蚀难、制作的铁电薄膜形貌不好和上电极容易起壳等问题.文章对铁电存储器制备中的一些关键工艺进行改进,降低了工艺复杂性,解决了上述问题.
铁电薄膜、铁电存储器、半导体工艺
30
TN405(微电子学、集成电路(IC))
2004-02-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
351-353
10.3969/j.issn.1004-3365.2000.05.016
铁电薄膜、铁电存储器、半导体工艺
30
TN405(微电子学、集成电路(IC))
2004-02-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
351-353
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn