10.3969/j.issn.1004-3365.2000.02.013
电子束曝光技术发展动态
电子束曝光技术是近三十年来发展起来的一门技术,主要应用于0.1~0.5 μm的超微细加工,甚至可以实现纳米线条的曝光.文中重点介绍电子束曝光系统、电子束抗蚀剂以及电子束曝光技术的应用.
电子束曝光、微细加工、抗蚀剂
30
TN405(微电子学、集成电路(IC))
2007-05-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
117-120
10.3969/j.issn.1004-3365.2000.02.013
电子束曝光、微细加工、抗蚀剂
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TN405(微电子学、集成电路(IC))
2007-05-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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