干扰压裂:射孔簇非均匀分布促进多条水力裂缝同时生长
除了应力阴影和储层变异性带来的挑战,水平井压裂的另一个重要障碍是在给定的压裂段内通过所有射孔簇生成水力裂缝(HF).本文利用完全耦合、平行平面三维新模型研究降低应力阴影的负面影响,从而通过调整射孔簇的位置促进水力裂缝组内裂缝更均匀延伸.本模型假定水力裂缝在三维应力耦合平行平面内延伸,而恒定注入流体动态分配给各裂缝,使得井筒压力沿裂缝组恒定.该模型证实当射孔簇分布均匀时,由于应力阴影,裂缝间存在抑制现象.事实上,由于外侧裂缝的集中延伸,均匀分布裂缝产生的总裂缝面积在很大程度与射孔簇数目无关.然而,数值试验表明不均匀射孔簇显著促进裂缝均匀延伸.要判断该效应需要依赖于这种新模型的一个能力:捕捉从径向延伸转换为PKN几何状态过程中同时延伸水力裂缝的全水力动力耦合(Perkins和Kern 1961;Nordgren,1972).
2015-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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