10.19789/j.1004-9398.2023.05.009
化学机械抛光垫在集成电路制造中的专利技术分析
通过对美国罗门哈斯公司1997-2020年在抛光垫领域的专利申请进行分析,得到其全球专利申请量分布和申请趋势、专利转让情况、专利法律状态、专利布局区域、专利引用状况以及技术发展脉络等重要信息.确定了该公司从1909年至今在该领域中的研发历程和研发重点方向,为我国企业在该领域的发展和突破,以及在技术和区域方面的专利布局提供一定的参考,促进我国在化学机械抛光垫领域中的健康发展.
化学机械抛光、抛光垫、专利分析、技术路线
44
TN305.2(半导体技术)
2023-11-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共10页
52-61