期刊专题

10.19789/j.1004-9398.2023.05.009

化学机械抛光垫在集成电路制造中的专利技术分析

引用
通过对美国罗门哈斯公司1997-2020年在抛光垫领域的专利申请进行分析,得到其全球专利申请量分布和申请趋势、专利转让情况、专利法律状态、专利布局区域、专利引用状况以及技术发展脉络等重要信息.确定了该公司从1909年至今在该领域中的研发历程和研发重点方向,为我国企业在该领域的发展和突破,以及在技术和区域方面的专利布局提供一定的参考,促进我国在化学机械抛光垫领域中的健康发展.

化学机械抛光、抛光垫、专利分析、技术路线

44

TN305.2(半导体技术)

2023-11-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共10页

52-61

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

首都师范大学学报(自然科学版)

1004-9398

11-3189/N

44

2023,44(5)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn

打开万方数据APP,体验更流畅