10.3969/j.issn.1671-1807.2020.10.024
从ASML和Nikon专利诉讼案例看国产光刻设备知识产权建设
光刻设备是集成电路(IC)制造的核心设备,是高科技强国的战略性产品,也是当前国际科技竞争的主要战场和博弈焦点.目前,全球的高端光刻机市场已被荷兰ASM L公司垄断,且其具备严密的全球知识产权布局.而光刻设备的国产替代作为市场后入者,知识产权建设起步晚,并不占据优势地位.通过对光刻领域两大国际巨头ASM L和Nikon在各自产品发展过程中不同阶段发生的专利诉讼案例的全面分析,探究在集成电路(或半导体)这样的技术密集型产业领域,知识产权诉讼中国际行业巨头常用的策略和技巧,进而得到对国产光刻装备知识产权建设的重要启示.
光刻设备、知识产权、诉讼
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F204(国民经济管理)
2020-11-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共8页
135-142
