10.3969/j.issn.1000-4998.2008.11.011
磁流变抛光装置中的磁路和磁屏蔽设计
利用磁流变抛光(MRF)技术对光学零件进行加工是一项极具前景的超精密加工技术.在论述磁流变抛光基本原理的基础上,详细讨论了该装置设计过程中的磁路设计,使抛光区产生足够的磁场强度;同时分析和验证了磁流体循环系统中的磁屏蔽技术设计.这些方法对磁流变抛光装置的工程应用有很好的参考价值.
磁流变抛光、磁路、磁屏蔽
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TP205(自动化技术及设备)
2009-02-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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