10.3969/j.issn.1000-4998.2007.11.002
磁头研磨的工艺参数分析
计算机硬盘存储容量的发展要求不断降低磁头在硬盘表面的飞行高度,从而要求硬盘磁头的表面粗糙度值越来越小[1].分析一种目前普遍应用于工业的技术:浮法抛光法,研究其研抛工作时工艺参数对磁头表面的影响情况,寻求一个合适的研抛参数和影响因素,以求达到快速加工,降低成本.
磁头、研抛工艺参数、表面粗糙度
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TG580.692(金属切削加工及机床)
国家自然科学基金50390061
2008-01-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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