10.3969/j.issn.1004-7530.2015.21.017
设备综合效率在真空刻蚀机上的应用
真空刻蚀机为一种昂贵的晶圆加工设备，在半导体领域有着广泛的应用，其设备主要用来加工晶圆上面的图形，从而制造电子元器件，因此，这种设备的价格也是非常昂贵的。文章首先通过介绍真空刻蚀机的基本构造以及工作原理，了解设备的运行及加工操作特点，然后通过对公司关键设备真空刻蚀机进行设备综合效率（OEE）工具的使用，有效地分析真空刻蚀机生产效率低下的原因，从而有针对性地进行改善与改造，加上执行TPM（Total Preventive Maintenance）来提升其设备综合效率，以达到生产线整体的生产效率提升的目的。
OEE、TPM、生产效率、真空刻蚀机
TP3;F27
2015-09-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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