10.3969/j.issn.1000-1158.2011.04.20
光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究
利用相调制型光谱椭偏仪研究了光刻胶光学常数的测量方法,针对测量过程中光刻胶曝光控制优化了测量方案和仪器参数.对常见的S9912正型光刻胶,给出了曝光前后275～650 nm波段的光学常数.并采用动态椭偏法测量了所需波长下曝光前的光学常数.实验结果表明:该测量方法适用于光刻胶在紫外-可见-红外宽波段的光学性质研究,在光刻模拟、新型光刻胶材料研制及其光学性质表征等领域有重要实用价值.
计量学、光刻胶、曝光、光学常数、光谱椭偏法
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TB96(计量学)
国家自然科学基金10774143;中国计量科学研究院基本科研业务费23-AKY1012
2011-12-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共4页
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