10.16413/j.cnki.issn.1007-080x.2016.01.005
面曝光快速成形系统掩模图形的优化研究
为了提高面曝光快速成形系统的制作分辨率,制作出具有细微结构特征的小尺寸零件,提出了一种基于灰度变换处理的掩模图形优化方法.通过研究光照强度分布影响细微结构制作的机制,建立了掩模图形优化模型;采用几何启发式算法,在VC ++6.0环境下进行位图灰度变换处理,改变了曝光平面的光照强度分布.试验得到掩模图形优化后的零件,其轮廓更加清晰、光滑,表明了该系统具备较高的制作分辨率.
快速成形、面曝光、掩模图形、灰度变换处理
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陕西省工业科技攻关项目2015GY070.
2016-07-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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