10.3321/j.issn:0567-7351.2001.06.006
博莱霉素与DNA在镍离子注入修饰电极上的相互作用及其应用
博莱霉素(BLM)在0.1 mol/L HOAc-NaOAc缓冲溶液(pH4.62)中,在Ni/GCE离子注入修饰电极上有一灵敏的还原峰,峰电位为-1.16 V(vs.SCE),峰电流与BLM浓度有关.用线性扫描和循环伏安法研究体系的行为表明,体系为具有加速作用的不可逆过程.是注入的Ni加速BLM的还原.引入DNA后,BLM的峰电位为-1.15 V(vs.SCE),与未加入DNA前几乎完全一致;只使峰电流降低,形成一种非电活性的结合物.求得该结合物的结合比为BLM:DNA=3:1,结合常数为β=3.16×1016.用线性扫描和循环伏安法,并辅以紫外可见光谱法等手段研究表明,电极过程仍为不可逆过程,与未加入DNA时一样.加入DNA后,BLM的峰电流降低,据此,可用于DNA的测定,回收率在96.8～103.9%之间.
博莱霉素、DNA、离子注入、伏安行为、表面分析
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O6(化学)
国家自然科学基金29875003;高等学校博士学科点专项科研项目98002709
2004-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
836-841
