10.3964/j.issn.1000-0593(2016)08-2601-06
热丝 CVD 沉积金刚石薄膜时的等离子体空间分布研究
采用热丝化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)的方法,以丙酮为碳源生长金刚石薄膜时,利用等离子体发射光谱对生长过程中的等离子体空间分布进行了在线诊断。采用 SEM,Raman 光谱分别对沉积金刚石膜表面、断面的形貌和质量进行表征。光谱分析表明,对于线性阵列布丝情况下,中心区域与边缘区域的基团分布存在差异,中心区温度高,裂解能力强,基团强度高于两边,但中心区域基团特征峰强度的变化比等离子球平缓的多；距离热丝越远,热辐射减小,从丙酮分子中裂解出 CH 和 CO 等基团以及由原子 H 激发的 Hβ与 Hα等强度降低,反而使得复合生成的 C2基团增加。SEM 测试结果表明,当丝基间距为4.5,5.5,6.5 mm 时,所沉积的金刚石薄膜表面由致密规则晶面向混乱转变,且单位时间内的生长速率也依次降低,此外,Raman 光谱表明随着纵向间距的加大,金刚石薄膜的质量随之降低。这与诊断结果中CH 和 CO 强度的降低,C2基团强度增加及基团 C2／Hα比强度下降相吻合。
热丝CVD、金刚石薄膜、发射光谱、空间分布
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O657.3(分析化学)
国家自然科学基金项目11175137;武汉工程大学研究生教育创新基金项目CX2014066
2016-09-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
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