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10.3964/j.issn.1000-0593(2015)06-1601-05

YVO4∶Eu纳米荧光材料的合成及其在手印显现中的应用

引用
以聚乙烯亚胺(PEI)为修饰剂,采用水热法合成了荧光强度较高、颗粒粒径较小的YVO4∶Eu纳米荧光材料,并讨论了合成该纳米荧光材料的反应机理。通过透射电子显微镜(T EM )、X射线衍射(XRD )、红外光谱(FTIR)、荧光光谱(FS)对纳米荧光材料的粒径形貌、晶体结构、表面官能团、荧光性能进行表征,该纳米荧光材料的粒径尺度约为30 nm、形貌为单分散的球形、晶体结构为四方YVO4晶型、其表面为PEI修饰,在254 nm紫外光的激发下能够发射出较强的红色荧光。将合成的YVO4∶Eu纳米荧光材料应用于常见光滑客体表面汗潜手印的粉末法显现中,并考详细察了手印显现灵敏度、抗背景颜色干扰能力等因素的影响。实验结果显示,经过YVO4∶Eu纳米荧光材料显现的手印在254 nm紫外灯照射下能够发射出明亮的红色荧光,手印纹线清晰连贯、细节特征明显、对比反差强烈、背景干扰较小。与传统的荧光粉末显现法相比,该显现方法具有较高的显现灵敏度和较低的背景干扰。

手印显现、纳米材料、稀土、潜在手印、荧光

O657.3(分析化学)

国家自然科学基金项目21205139;辽宁省高等学校优秀人才支持计划项目LJQ2014130;公安部应用创新计划项目2012YYCXXJXY127;公安部科技强警基础工作专项项目2014GABJC033;东穗科技创新基金项目2014-7

2015-06-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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光谱学与光谱分析

1000-0593

11-2200/O4

2015,(6)

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