10.3321/j.issn:1000-0593.2006.01.044
X射线荧光光谱法表征薄膜进展
X射线荧光光谱法表征薄膜样品以其能同时测定样品的组分和厚度等优点,目前在国内外的研究和应用越来越广泛和深入.文章通过从荧光强度理论计算、基体效应和校正方法、分析误差来源及消除、定量分析软件和实际分析应用等几个方面对X射线荧光光谱法表征薄膜样品的研究作了评述.鉴于薄膜样品制备相似标样比较困难,而基本参数法采用非相似标样表征薄膜的准确度较高,因此基本参数法校正薄膜样品的应用比较广泛.重点介绍了基本参数法的荧光强度理论计算公式的发展、计算误差来源以及分析软件应用.展望了X射线荧光光谱法表征薄膜样品的应用前景和发展方向.
X射线荧光光谱法、薄膜、评述
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O657.3(分析化学)
中国科学院知识创新工程项目
2006-04-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共7页
159-165
